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          產(chǎn)品介紹:
          硅片缺陷觀測儀(HS-WDI),于對硅片的缺陷進行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
          實時對圖像進行分析、測量和統(tǒng)計,提高傳統(tǒng)光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備,能更好的觀測和保存研究結果。

          產(chǎn)品特點:
          適用于對硅片的缺陷觀察效果,非常明顯,包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等;
          使硅片缺陷觀察工作簡單化,準確化,同時極大程度降低此項工作強度;
          實時對圖像進行分析、測量和統(tǒng)計,提高傳統(tǒng)光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備,能更好的觀測和保存研究結果;
          使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有體積小,技術先進,像素較高, 成像清晰 、線條細膩、色彩豐富;
          傳輸接口為 USB2.0 高速接口, 軟件模塊化設計
          有效分辨率為 200 萬像素;
          所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。

          實際觀察效果:



          硅片放大效果100倍

          硅片放大效果200倍


          硅片放大效果400倍

          推薦工作條件:
          溫度:23±2℃
          濕度:60%~70%
          無強磁場、不與高頻設備鄰近

          典型用戶:
          浙江昱輝、江西塞維LDK、常州天合等

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